光刻机的国际市场环境解析，尼康是否有竞争市场?

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在科技时代，拥有更多的技术则意味着更多的市场话语权，在光刻机市场也同样，现在基本处于市场垄断地位的ASML也是凭借的技术优势领先。

日本Nikon和Canon：退出高端光刻机市场

目前其它几家都没有正式发布的EUV级别产品能够和ASML一较高下，只有Nikon NRS系列有ArF浸入式光刻机，参数指标上勉强可以达到ASML高端产品的水准。但是从业界的反馈来看，Nikon高端系列实际性能相比ASML同档次设备仍有不小差距，尤其是在套刻精度上远远达不到官方宣称水准，以至于Nikon光刻设备在售价不到ASML同类产品一半的前提下，依旧销售不佳。

Canon早已在很多年前便放弃了在高端光刻机上的竞争，目前产品主要集中在面板等领域。目前他们还在销售的集成电路光刻设备在指标标上只相当于ASML的低端产品PAS5500系列。Nikon作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司之一，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道Nikon的相机做的好，却不知道Nikon光刻机同样享誉全球。

Nikon (7731.JP)成立于1917年，是总部设在日本东京，主要分四个事业领域，分别精密设备公司、映像公司、仪器公司及其他(包括CMP装置事业、测量机事业、望远镜事业等)。

荷兰ASML：研发能力代表市场地位

ASML (全称：Advanced Semiconductor Material Lithography，ASML Holding N.V)，中文名称为阿斯麦(中国大陆)、艾司摩尔(中国台湾)，是总部设在荷兰Veldhoven的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。另外，ASML的大股东是英特尔，三星和台积电(TSMC)。

ASML的产品一共有四个系列，ASML一直以来保持了高研发投入，因此其专利申请量也长期保持高位。第一波高速上涨来自2000至2004年，这一时期Intel、AMD、VIA及IBM等企业设计的半导体芯片性能快速提升，为了克制芯片在高频率运行时产生的高温，他们对半导体制程提出了越来越高的要求，这间接导致了光刻机技术的不断提升。不过由于光物理性质的影响，在光刻机发展到193nm后，研发陷入了困局。几大芯片巨头合力将193nm沉浸式光刻技术延伸至15nm令光刻机企业研发及专利申请下滑。但是沉浸式光刻终于在7nm之后难以再次发展，EUV成为了解决这一问题的关键，近些年里ASML相关技术专利申请再次进入增长阶段。

国外光刻机企业的市场发展分析

虽然占据了全球80%的市场份额，但是ASML并非技术垄断。ASML光刻机设备90%的零部件都依赖外购，光源来自于美国Cymer(2013年，ASML完成对Cymer的收购)，光学模组来自德国蔡司，计量设备来自美国是德科技，传送带则来自荷兰VDL集团。同时，ASML也非常重视并购投资以及与其他企业合作的策略，光刻机的研发需要投入巨大的人力物力财力，并事关全球半导体芯片的升级速度。

目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经占据了高达80%的市场份额，垄断了高端光刻机市场。日本尼康在高端光刻机上完全被ASML击败，即便尼康的ArF光刻机售价仅仅不到ASML的一半也无补于事。Intel、台积电、三星用来加工14/16nm芯片的光刻机都是买自ASML，格罗方德、联电以及中芯国际等晶圆厂的光刻机主要也是来自ASML。

更关键的是，最先进的EUV光刻机全球仅仅ASML能够生产，ASML在今年第三季度和第四季度出售的两台EUV光刻机售价都超过1亿美元，落后EUV一代的ArF光刻机平均售价也在4000万至5000万欧元左右，从高企的报价和EUV光刻机全球仅此一家出售可以看出，光刻机的技术门槛极高，是人类智慧集大成的产物。

相比之下，国内光刻机厂商差距则较大，处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中，性能最好的是能用来加工90nm芯片的光刻机，技术差距说是鸿沟都不为过。正是因此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次从荷兰空运至厦门机场的ASML光刻机，就是用于芯片生产制造的高端光刻机，由于是厦门的一家公司申报进口的，笔者猜测，这台设备很有可能是厦门当地政府与台湾联华电子合资的晶圆厂从荷兰ASML采购的。不过，由于西方瓦森纳协议的限制，中国只能买到ASML的中低产品，这一点从厦门当地企业进口的光刻机报价仅1亿人民币就可以看出来了。

在市场发展策略方面，ASML现在采用的机器零件有百分之九十来自于采购，这使得企业能够专注于用户和系统的技术。

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