光刻机(Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
专属客服号
微信订阅号
全面提升数据价值
赋能业务提质增效
客户服务热线：
周一至周五（09:00 - 18:00）
专属客服号
微信订阅号
Copyright © 北京笃威尔数字技术有限公司 | 五度易链 京ICP备2021019355号-2 京公网安备11010602103306
公司地址：北京市丰台区广安路9号国投财富广场1号楼12层 联系电话：010-68321050
Copyright © 北京笃威尔数字技术有限公司 | 五度易链 京ICP备2021019355号-2 京公网安备11010602103306
公司地址：北京市丰台区广安路9号国投财富广场1号楼12层 联系电话：010-68321050
请完善以下信息，我们的顾问会在1个工作日内与您联系，为您安排产品定制服务