CMP技术：CMP即Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP技术通过化学和机械综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。借助于纳米粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用之间的有机结合，在被研磨的工件表面形成光洁表面。
专属客服号
微信订阅号
全面提升数据价值
赋能业务提质增效
客户服务热线：
周一至周五（09:00 - 18:00）
专属客服号
微信订阅号
Copyright © 北京笃威尔数字技术有限公司 | 五度易链 京ICP备2021019355号-2 京公网安备11010602103306
公司地址：北京市丰台区广安路9号国投财富广场1号楼12层 联系电话：010-68321050
Copyright © 北京笃威尔数字技术有限公司 | 五度易链 京ICP备2021019355号-2 京公网安备11010602103306
公司地址：北京市丰台区广安路9号国投财富广场1号楼12层 联系电话：010-68321050
请完善以下信息，我们的顾问会在1个工作日内与您联系，为您安排产品定制服务