2023年光刻机行业市场现状调研及发展前景研究报告

: 2023年光刻机行业市场现状调研及发展前景研究报告

发布时间：2023-08-22

发布机构：五度易链行业研究中心

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《2023年光刻机行业市场现状调研及发展前景研究报告》概要：

　　光刻机(lithography)又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

　　光刻工艺定义了半导体器件的尺寸，是IC制造中的关键环节，而光刻机是光刻工艺的核心设备，也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，包含上万个零部件，集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。

　　作为整个芯片工业制造中必不可少的精密设备-光刻机，其光刻的工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平，因此光刻机更是被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

　　目前，我国半导体设备国产化率约为18.8%。该数据包括集成电路、LED、面板、光伏等设备，预计国内集成电路设备国产化率仅为8%左右。细分而言，目前我国企业在去胶设备、清洗设备、刻蚀设备、热处理设备、PVD设备、CVD设备、CMP设备、涂胶显影设备均有突破，部分产品成功实现了国产替代。然而对于光刻设备我国仍处于被掐住喉咙的状况，国产化率仍不到1%，市场高度依赖进口，且国产化进程整体较慢。

* 本报告系五度数科原创，转载请注明来源。

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