INTRODUCTION
光刻机又名掩模对准曝光机，是半导体产业链中最精密的设备，是制造芯片的核心装备。光刻机行业属于明显的寡头垄断格局，荷兰ASML光刻机独占鳌头。国产光刻机研发虽然近年来突破重重壁垒，在核心技术上取得了突破性进展，但短期仍难达到国际领先水平。
2023年12月25日，佳能半导体机器业务部长岩本和德表示，佳能采用纳米压印技术的光刻机有望生产2nm芯片，且成本可以降至传统光刻设备的一半。在岩本和德发声的4天以前，荷兰半导体设备制造商ASML宣布，已向英特尔交付了全球首台High NA(高数值孔径)EUV(极紫外)光刻系统，支持2nm制程及以下工艺的芯片制造...[文章阅读]
导入了首台EUV光刻机并不意味着台积电在美国建厂能“万事大吉”。有消息称，首台EUV光刻机的导入也使得台积电美国亚利桑那州厂加剧人才缺口。随着建厂进入到安装先进精密设备的关键阶段，预计将有2000名相关技术人员的人才缺口。此前台积电在财报电话会议上透露，受人力开支、许可证、合规性和通货膨胀的影响，赴美设厂成本或至少是中国台湾地区的四倍...[文章阅读]
除了积极跟踪EUV光刻机的开发进程，芯片厂商也在寻找能够替代EUV光刻机的技术。被寄予厚望的不仅仅是电子束光刻技术。铠侠力推NIL压印工艺，声称有望在2025年实现5nm工艺;台积电采用DUV光刻技术同样实现了7nm工艺，并声称DUV光刻技术可以也可以实现5nm工艺。...[文章阅读]
在所有光刻机中EUV无疑最受关注。财报显示，ASML第二季度极紫外线光刻机(EUV)共售出12台，环比增长9台，收入19.9亿欧元，环比增长232%。ASML的EUV订单量积压已超过100台，同时预计明年的EUV产能将超过60台。...[文章阅读]
2021年，全球存储器市场先扬后抑，前三个季度内存价格一路攀升，第四季度却转为供过于求，价格开始下跌。2022年，随着三大原厂对EUV的应用将进一步增加，DRAM的成本构成逐步改变，NAND闪存也将进入172层时代，存储器的市场形态或将展现出一些新的特征。...[文章阅读]
光刻机产业链上游关键部件包括工作台、掩模台、投影物镜、激光器、和传感器等器件，中游产品包括接触式/接近式、扫描投影式、浸没式、极紫外式光刻机，下游主要面向芯片制造、MEMS灯、封装、LED照明、平板显示等领域。目前，光刻机产业链高端领域行业壁垒较高，国内跻身行业前列还需要很长一段时间。...[文章阅读]
光刻机在芯片制造相关设备中处于核心地位，随着半导体行业对芯片制程要求的不断提高，促进了光刻机产品从低端向高端的升级，光刻机市场规模逐步提升。目前IC前道光刻机高端市场被ASML垄断，国产光刻机的技术仍然落后于国外，国内企业在完成90nm制程的基础上，正在向28nm制程光刻机加速迈进。...[文章阅读]
在《瓦森纳协定》限制下，我国已初步形成自主研发90nm光刻机产业链，虽与荷兰ASML的7nm全球高端产业链相差较远，但在局部领域已达到世界领先水平，并逐渐融入ASML高端产业链。本文主要从光刻机的产业链、市场格局等方面进行介绍。我国长期受《瓦森纳协定》限制，无法使用国际高端光刻机所需要的先进部件，导致我国光刻机与世界先进水平差距较大。随着国家02专项中的光刻机关键核心技术的突破，我国自主研发能力不断加强，在局部领域已经达到世界先进水平，目前我国上海微电子已实现自主研制90nm制程光刻机，预计2021年将实现28nm光刻机。...[文章阅读]
光刻机在芯片制造领域具有举足轻重的地位，光刻机决定了晶体管的尺寸，晶体管的尺寸对于芯片的性能具有重大意义，半导体行业对于芯片性能的不断追求推动了光刻机产品的不断升级与创新。目前光刻机市场呈现寡头垄断的局面，高端技术掌握在巨头企业手中。国产光刻机的技术仍然落后于国外，在技术研发以及人才建设上还有很长的路要走。...[文章阅读]
近年来，我国的科学技术在不断迎来突破。在发展的同时，在一些技术的发展方面仍然处于劣势，这些技术都需要进行更多的研发投入，进而促进行业的良性发展。指甲盖大小的芯片，密布千万电线，纹丝不乱，需要极端精准的照相机——光刻机。光刻机精度，决定了芯片的上限。高精度光刻机产自ASML、尼康和佳能三家;顶级光刻机由ASML垄断。...[文章阅读]
在科技时代，拥有更多的技术则意味着更多的市场话语权，在光刻机市场也同样，现在基本处于市场垄断地位的ASML也是凭借的技术优势领先。Canon早已在很多年前便放弃了在高端光刻机上的竞争，目前产品主要集中在面板等领域。目前他们还在销售的集成电路光刻设备在指标标上只相当于ASML的低端产品PAS5500系列。Nikon作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司之一，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道Nikon的相机做的好，却不知道Nikon光刻机同样享誉全球。...[文章阅读]
国内的光刻机企业和国外的企业相比差距巨大，但是在这样的发展背景下，国内的光刻机技术也在实现不断的突破。光刻机的关键核心技术，第一道难关是光刻机的曝光光学系统，由数十块锅底大的镜片串联组成，其光学零件精度控制在几个纳米以内，ASML公司的镜头组由老牌光学仪器公司德国蔡司独家生产。...[文章阅读]
光刻机在现在的芯片市场中处于非常重要的位置，其技术发展水平将直接影响芯片的发展。那么现在光刻机的工作原理是什么，它是怎样在芯片制造中发挥作用的呢?光刻机根据应用工序不同，可以分为用于生产芯片的光刻机，以及用于封装的光刻机，其中封装光刻机对于光刻精度和控制精度的要求都比制造用光刻机低很多，价值量也相对较低。...[文章阅读]
光刻机的发展限制了现在的芯片发展，现在国内的光刻机发展和国外的差距非常大，那么光刻机的技术包括哪些方面呢?光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。最核心的就是镜头，这个不是一般的镜头，可以达到高2米直径1米，甚至更大。...[文章阅读]
荷兰的ASML，是现在光刻机，在现光刻机市场处于垄断地位。那么这个企业能够位于现企业第一的原因有哪些呢?ASML最开始是飞利浦光刻设备研发小组。1971年开始研发，在1973年就研发了新型光刻设备，最后因为亏损太厉害，成本太高，分拆出来了，但所有的团队都保留了下来。在推翻现在ASML的市场垄断地位的道路上，各国企业也在进行相关的研究，但是基于时间和技术支持有限，现在其他公司和ASML的差距依旧很大。...[文章阅读]
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